GLASS表面清洗改质紫外线灯100Z22AL

实验室用小型UV紫外线照射设备

设备型号：QRU-2161-D

用途：光阻材料固化，粘着剂固化，封装胶固化，油墨胶固化，框胶材料固化。

照射装置构成：由灯箱和电源构成。

光源：汞灯 。

功率：300W，500W，800W.

特长：操作简单，小型化，轻量化，可手持，节能。

製品仕様：使用UV汞灯作为光源，光源主要波长为365nm，照度为30mW/cm2.

反射镜：黄金反射镜

冷却：风冷

照射面积：120×130mm

灯箱尺寸：180(W) × 250(D) × 212(H) mm

电源尺寸：300(W) × 370(D) × 395(H) mm i线步进式光刻机NSR2205i14,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2.5KW，型号：NLi-2510AL。GLASS表面清洗改质紫外线灯100Z22AL

ORC紫外线照度计/光量计，型号： UV-351；

①測定範囲310～385nm（峰值355nm）②光量測定ｍJ/cm2（１）測定範囲０．１～１９９９９．０ｍJ/cm2（２）表示範囲１～１９９９９ｍJ/cm2（３）光量超出１９９９９ｍJ/cm2，４個小数点和単位（ｍJ/cm2）点灭（１）測定範囲０．１～１００mW/cm2（２）照度超出１００mW/cm2，４個小数点和单位（mW/cm2）会点灭。（３）设定计时测定通过背面开关和時間設定旋钮。１）计时時間１～１０秒２）機能照度、０．１mW/cm2以上的紫外线入力，设定时间计时动作开始、显示设定时间后照度。（４）自动保存峰值測定中的最大照度値。（HOLD点滅、ＤＡＴＡ点灯）④警報（１）温度本体内部温度高于60°时、４小数点和単位（℃）点灭。精度±３℃程度（２）电池电量低下，不能使用时，ＬＯＢＡＴ表示点灯。⑤受光素子图像二极管⑥使用温度範囲０～６０℃、无结露。⑦上記温度範囲，参考敝司ＵＶ標準精度：±１．５％以内⑧往复精度上記温度範囲内±１．５％以内⑨开机时间：电源开关ＯＮ1秒⑩電源按钮型锂電池（型式Ｍｎ０２－Ｌｉ３ＶＣＲ２４５０）⑪自动关机：照度0.1mW/㎝2以下約４分后電源OFF⑫本体寸法／重量約79（W）×160（D）×12（H）／約180g NLi-2510AHL紫外线灯进货途径i线步进式光刻机NSR-2005i9用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2001A-1。

工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。

曝光机设备上配置椭圆镜，镜面有做涂层处理。椭圆镜作用是协助光源发出的紫外线波长(365nm，405nm，436nm)无法穿过椭圆镜的镜面，紫外线光反射回来，500nm以上的红外线透过椭圆镜的镜面，释放掉热量。灯箱内常时通入氮气，吹向冷却紫外线灯及椭圆镜，降低灯箱内氛围温度，通过常时排气，带着多余热量，是高压汞灯稳定工作。佳能面向FPD工厂的曝光机，设备型号：MPAsp-E813，MPAsp-H803，MPAsp-H763，内部标配椭圆镜，型号：Y60-5340-000。i线步进式光刻机NSR-2205i11 SHRINC3,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2002A-1。

制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。工件台顾名思义就是放工件的平台，光刻工艺主要的工件就是掩模和基片。i线步进式光刻机NSR-SF110,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率3.5KW，型号：NLi-3500AS。FPD曝光机电源紫外线灯5KW电源

强劲光明，金属卤素灯带你迈向更明亮的未来。GLASS表面清洗改质紫外线灯100Z22AL

特定の気体と金属蒸気の放電によって発光する電極間隔が1〜10ｍｍ程度のランプで、点灯中の圧力は100kPa以上です。リソグラフィ用UVランプとして高い評価と信頼をいただいています。ORCショートアークUVランプは高効率で紫外線を放射する点光源として、露光、乾燥、その他あらゆる産業、研究分野で利用されています。お客さまの御要望にお応えする幅広いラインナップを取りそろえており、共同開発などの課題解決のお役に立てます。GLASS表面清洗改质紫外线灯100Z22AL